中微公司获得发明专利授权：“半导体零部件、等离子体反应装置和涂层形成方法”

证券之星消息，根据企查查数据显示中微公司（688012）新获得一项发明专利授权，专利名为“半导体零部件、等离子体反应装置和涂层形成方法”，专利申请号为CN202010777043.6，授权日为2024年6月7日。

专利摘要：本发明涉及半导体加工技术领域，具体公开了一种半导体零部件，包括半导体零部件本体，其内设置有冷却通道，并且冷却通道的内侧壁具有抗腐蚀涂层。本发明提供的半导体零部件中的冷却管道内侧壁表面具有抗腐蚀涂层，这种涂层隔离冷却液和冷却管道，从而避免冷却管道被冷却液中的污染物腐蚀，并且选用的高分子涂层具有表面能低和兼具疏水疏油性的优点，能够降低冷却剂高速流动时与铝合金冷却管道接触界面的产生静电的风险，从而避免了电化学腐蚀。还提供了等离子体反应装置，装置中的半导体零部件中的冷却管道具有抗腐蚀涂层，能够防止冷却液管道被冷却液腐蚀。最后提供了抗腐蚀涂层的形成方法，该方法工艺简单，易于实施，成本低。

今年以来中微公司新获得专利授权72个，较去年同期增加了5.88%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了8.17亿元，同比增34.91%。

数据来源：企查查

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